制動(dòng)器形式磁滯制動(dòng)器
材質(zhì)碳鋼
扭力0-300NM
適用場(chǎng)合機(jī)械傳動(dòng)
適用電機(jī)直流電機(jī)
工作環(huán)境干燥
制動(dòng)時(shí)間0.1秒
響應(yīng)速度1秒
Magnetic Technologies磁滯制動(dòng)器彈簧離合器:僅具有一個(gè)或兩個(gè)較強(qiáng)力的螺旋彈簧并安置在。膜片彈簧離合器:是以膜片彈簧作為壓緊彈簧的。扭簧摩擦離合器:通過操縱系統(tǒng)使扭簧扭轉(zhuǎn),引起扭簧直徑減小或. 圓盤摩擦離合器:摩擦件為圓盤,分單盤和多盤兩種,并有干式和濕式之分。單盤式結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,只有一對(duì)摩擦面,從動(dòng)部分慣量很小,散熱性好,調(diào)整方便,分離徹底,但所能傳遞的扭矩小,一般不超過1000牛.米。多盤式有多對(duì)摩擦面,傳遞的扭矩可達(dá)8×106牛.米。如要求傳遞大扭矩,可增加摩擦面對(duì)數(shù),而不必離合器的徑向尺寸和軸向壓緊力,這有利于降低離合器的轉(zhuǎn)動(dòng)慣量。多盤式結(jié)構(gòu)緊湊,可采用不同材料的摩擦面,便于制造、安裝和調(diào)整,允許在變速下接合,應(yīng)用廣泛;但摩擦面對(duì)數(shù)過多會(huì)影響離合靈活性,甚至卸去壓緊力后,主、從摩擦件仍不能徹底脫開,造成摩擦面的過量磨損。
705-0750
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705-0866
705-0875
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EB3M-2DS
EB10M-2DS
EB20M-2DS
EM-2DS
EB140M-2DS
EB250M-2DS
EB450M-2DS
EB750M-2DS
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在用戶程序執(zhí)行階段,可編程邏輯控制器總是按由上而下的順序依次地掃描用戶程序(梯形圖)。在掃描每一條梯形圖時(shí),又總是先掃描梯形圖左邊的由各觸點(diǎn)構(gòu)成的控制線路,并按先左后右、先上后下的順序?qū)τ捎|點(diǎn)構(gòu)成的控制線路進(jìn)行邏輯運(yùn)算,然后根據(jù)邏輯運(yùn)算的結(jié)果,刷新該邏輯線圈在系統(tǒng)RAM存儲(chǔ)區(qū)中對(duì)應(yīng)位的狀態(tài);或者刷新該輸出線圈在I/O映象區(qū)中對(duì)應(yīng)位的狀態(tài);或者確定是否要執(zhí)行該梯形圖所規(guī)定的功能指令。 即,在用戶程序執(zhí)行過程中,只有輸入點(diǎn)在I/O映象區(qū)內(nèi)的狀態(tài)和數(shù)據(jù)不會(huì)發(fā)生變化,而其他輸出點(diǎn)和軟設(shè)備在I/O映象區(qū)或系統(tǒng)RAM存儲(chǔ)區(qū)內(nèi)的狀態(tài)和數(shù)據(jù)都有可能發(fā)生變化,而且排在上面的梯形圖,其程序執(zhí)行結(jié)果會(huì)對(duì)排在下面的凡是用到這些線圈或數(shù)據(jù)的梯形圖起作用;相反,排在下面的梯形圖,其被刷新的邏輯線圈的狀態(tài)或數(shù)據(jù)只能到下一個(gè)掃描周期才能對(duì)排在其上面的程序起作用。
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